text.skipToContent text.skipToNavigation
Peintures et revêtements

Peintures et revêtements

Peintures et revêtements

Nous avons trouvé 26 articles.

Filtre
Filtres appliquésEffacer tout

Application
Physical Form
Sustainable
Demande d’échantillon
Coordonnées du demandeur
Nom complet
Compagnie
Position
Numéro de téléphone
Adresse e-mail professionnelle
Adresse de livraison

Thank you. Your request has been sent.

PHOTOMER 4666

PHOTOMER 4666 is a mixture of penta-acrylate and hexa-acrylate monomer.
OMNISTAB IN-526

OMNISTAB IN-526 is an effective liquid polymerization inhibitor or storage stabilizer for photosensitive resins and monomers. It retards the self-polymerization of UV-coating and ink formulations during storage. Omnistab IN 526 is effective and has excellent performance in a wide range of applications.
OMNICAT432

OMNICAT432 is a mixture of triarylsulfonium hexafluorophosphate salts and propylene carbonate, for cationic curing of epoxy, oxetane, and vinyl ether formulations.
PHOTOMER 4006

PHOTOMER 4006 is an aliphatic trifunctional acrylate of low viscosity and excellent crosslinking reactivity. In comparison to other trifunctional acrylates, it is an effective reactive diluent with excellent solvency and viscosity reducing characteristics in UV/EB curable formulations based on epoxy, polyurethane, and polyester oligomers.
Pardon! Vous ne pouvez pas laisser ce champ vide.
Pardon! Vous ne pouvez pas laisser ce champ vide.
Pardon! Vous ne pouvez pas laisser ce champ vide.
Pardon! Vous ne pouvez pas laisser ce champ vide.
Pardon! Vous ne pouvez pas laisser ce champ vide.
Pardon! Vous ne pouvez pas laisser ce champ vide.
Pardon! Vous ne pouvez pas laisser ce champ vide.
Pardon! Vous ne pouvez pas laisser ce champ vide.
Pardon! Vous ne pouvez pas laisser ce champ vide.
Pardon! Vous ne pouvez pas laisser ce champ vide.
Pardon! Vous ne pouvez pas laisser ce champ vide.
*source.form.mandatory

Merci pour votre demande.

Nous vous contacterons dans les jours ouvrables.

La quantité de produit a été mise à jour.